东海耀碳素(大连)有限公司
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外延在现代半导体行业中是关键的一环,在其关键设备MOCVD中,我们的SiC涂层盘被广泛应用。我们的化学气相沉积的SiC涂层解决工艺有以下几大优势:
1、出色的抗热冲击阻力
2、出色的抗物理冲击阻力
3、出色的耐化学性
4、超高纯度
5、可加工成各种复杂的形状
6、在氧化环境下仍然可以使用
企业名称
东海耀碳素(大连)有限公司企业类型
信用代码
91210200759942773X法人代表
注册地址
成立日期
注册资本
有效期限
经营范围